https://www.ruhanson.com/ 本公司於2001年在桃園楊梅成立，以引進國外高科技之精密加工技術並促進國內的工業發展為宗旨，主要代理銷售日本Engis超精密鏡面研磨拋光機、拋光懸浮液、日本Engis鑽石研磨液、Hyprez鑽石膏、拋光皮與樹脂銅盤等，展示的日本Engis桌上型鏡面拋光機可進行平面研磨拋光測試，並且銷售光學干涉儀器、半導體及液晶面板製程設備之零組件和國際貿易等。             zh 智邦生活館 版權所有 Foresight v0.3.2 RSS 2.0 Generator 智邦生活館 網站代管 Tue, 19 Mar 2024 09:35:27 CST Tue, 19 Mar 2024 09:35:27 CST 智邦生活館 版權所有 10080 469052 Tue, 22 Aug 2023 18:35:13 +0800 https://www.ruhanson.com/hot_469052.html https://www.ruhanson.com/hot_469052.html 116926 Fri, 14 Nov 2014 17:13:29 +0800 鈦金屬因密度小重量輕並且強度高，這在非鐵金屬中是屬於少有的特殊性能材料，而且有極佳的耐腐蝕、耐熱性以及耐低溫之無磁性金屬，但是純鈦的機械強度並不佳，一般都是以鈦合金的產品居多，而鈦合金之氧及碳含有量多寡亦會影響鈦合金的強度。雖然鈦金屬在機械研磨拋光可達到和不銹鋼相同的鏡面條件，但依實際鏡面加工經驗來說，鈦金屬比不銹鋼加工困難，因為由於鈦金屬的獨特的性能，其粘性韌性較大，導電率低，導熱係數較小、因有吸氣性能較易氧化，表面上的刮傷不易移除等問題，所以在施以表面處理時，經常會帶來了極大的困難。日本Engis根據長期的拋光技術，依鈦金屬特殊材料之性能，搭配日本Engis拋光技術、優異的設備及磨料進行平面鏡面拋光，並且避免長時間加工而造成因熱變形及化學反應等，目前實際鏡面拋光後之粗糙度在10nm以下，例如使用於晶圓封裝等零組件。                     https://www.ruhanson.com/hot_116926.html https://www.ruhanson.com/hot_116926.html 97621 Thu, 17 Apr 2014 08:26:16 +0800    本公司代理進口日本製造的離子源 （ Ion source ）柵極組件，為三片一套的鉬電極板(Mo Grid)，依序分別為遮蔽電極 ( SG )、加速電極 ( AG )及減速電極 ( DG )，並經過專業特殊之表面曲率成型加工及精密鑽孔加工。離子源之鉬電極板(Mo Grid)特別使用於高階的光學鍍膜製程中，例如光學鏡片工廠採用的離子輔助蒸鍍 (Ion-beam Assisted Deposition ) 等相關離子源設備。                                     https://www.ruhanson.com/hot_97621.html https://www.ruhanson.com/hot_97621.html 97627 Mon, 17 Nov 2014 12:06:54 +0800    日本Engis超精密拋光技術可說是集合多年的加工經驗及無數次的失敗而累積起來，並首先將鑽石具有拋光之特性加以研究開發，成功地應用在精密加工，並在世界各國建立高度信賴感及實績，成為全世界超精密拋光之先驅，為了提供全方位拋光加工服務，領先開發拋光定盤平面之自動修整器功能，以提升奈米拋光性能。   鑑於亞洲新興科技工業興起，並在集團的雄厚資金及優異技術支援下，於1983年4月在日本橫濱市成立了日本Engis，並且設立鑽石液研發及調配生產工廠，能夠供給齊全的鑽石種類，而且可以依照客戶之需求調製出單晶和多晶及各種濃度能並廣泛應用在各界精密加工領域，尤其是在光電材料及特殊硬脆材料上有著舉足輕重之地位。為了服務廣大客戶之精密加工要求，於1987年在橫濱總公司設立專業研磨拋光實驗室，配置各式先進檢測儀器以及拋光設備以能夠量產為開發目的，並以集團多年之累積經驗基礎及搭配優秀設備加以研究開發合適量產用且具有經濟實惠之製程。     拋光定盤是採用高分子樹脂材料及金屬粉末燒結而成高分子之複合盤，因為具有柔軟性，工件與鑽石磨粒接觸時會有緩衝性避免刮傷表面，且鑽石磨粒可附著固定在盤面使磨粒保持規律彈性形成固定磨料，並且可阻止產生摩擦熱之層流進而避免造成工件晶界露出等狀況發生。因為有專業拋光之知識支援，得以在光電以及精密機械設備零組件等要求超精密度拋光品質之產業有著舉足輕重之地位。 應用實績： MR讀取磁頭、藍寶石基板、碳化矽基板、 光學鏡片、DWDM玻璃基板、CVD背板、鈮酸鋰(LiNbO3)基板、光碟模仁、LCD導光板模仁、LCD彩色濾光片塗佈噴嘴、散熱片、氮化鋁(AlN)、靜電吸盤(ESC)、車燈模具(Reflector)、砷化鎵(GaAs)及氮化鎵(GaN)等。                                          加工實例：                                 https://www.ruhanson.com/hot_97627.html https://www.ruhanson.com/hot_97627.html 97622 Thu, 20 Nov 2014 09:48:22 +0800                      https://www.ruhanson.com/hot_97622.html https://www.ruhanson.com/hot_97622.html 97626 Sat, 15 Nov 2014 12:40:06 +0800     日本Engis大型導光板模仁精密平面拋光機是適用於液晶面板背光模組的導光板射出模仁拋光製程，因為配置拋光樹脂銅定盤之精密修整器，可提升工件精度及縮短拋光時間，並配合日本Engis專業精密拋光技術支援，可以維持良好工件品質，而且泛用型平面拋光機可依工件規格配置適合專用治具及搭配日本Engis之優異拋光材料，成為專業超大型精密鏡面拋光設備。    目前大多數國內外導光板廠商皆採用日本Engis專業精密拋光技術，可快速地進行量產並提高良率而使得日本Engis成為模仁拋光業界之領導品牌。               材質：SUS420J2     加工條件           中   拋           細   拋   設 備  EJW-400IFN EJ-380IN       盤 面  Hyprez樹脂銅盤 Pad545N       耗 材   鑽石液2um HCL-XL    面 粗 度  Ra https://www.ruhanson.com/hot_97626.html https://www.ruhanson.com/hot_97626.html 97625 Thu, 17 Apr 2014 08:39:48 +0800    日本Engis超精密專業拋光相關設備及技術，針對氮化鋁等特殊脆硬材料可符合業界最高規格之超精密鏡面拋光要求。氮化鋁基板之特殊脆硬材料已使用於半導體設備製程之零組件以及LED散熱用的氮化鋁基板，目前日本國內的大多數氮化鋁基板拋光加工廠商皆採用日本Engis超精密拋光設備及研磨耗材，而氮化鋁基板之粗糙度要求已經在3nm以下，日本Engis以超高拋光技術製程並搭配優異研磨材料，簡易並快速地達到粗度3nm以下，並可以依照客戶要求研發合適的製程，以解決客戶在氮化鋁基板拋光上之盲點。材質：2inch AlN wafer   加工條件        中   拋          細   拋  設 備EJW-400IFNEJW-400IFN      盤 面 Hyprez樹脂銅盤  AT盤      耗 材鑽石液3um C.A.P.    面 粗 度Ra https://www.ruhanson.com/hot_97625.html https://www.ruhanson.com/hot_97625.html 97624 Thu, 17 Apr 2014 08:40:49 +0800   日本Engis公司最新研究開發並成功完成之醫療用導管裁切刀具的專用超精密拋光機，可以自動將刀具轉面進行拋光加工，而且盤徑380mm專用拋光定盤之主軸亦設計為可自動橫移的運轉方式，並且搭配日本 Engis優良鑽石研磨液可以提高拋光效率，使得刀具端面非常鋒利符合醫療裁切規格，目前業已在日本國內正式銷售中。                                           https://www.ruhanson.com/hot_97624.html https://www.ruhanson.com/hot_97624.html 97623 Thu, 17 Apr 2014 08:45:48 +0800    目前日本之光電材料以及特殊硬脆材料等基板之製造廠大多採用日本Engis公司超精密拋光專業設備技術及優異磨料，例如單晶碳化矽(SiC)、藍寶石(Sapphire)、氮化鋁(AlN)、氮化鎵(GaN)、砷化鎵(GaAs)、鉭酸鋰(LiTaO3)、鈮酸鋰(LiNbO3)等基板，因為日本Engis可以針對光電、通訊業界特殊需求，使用自行生產之磨料及設備研究開發出實用之製程。 研磨拋光製程上相對困難的單晶碳化矽基板，在高階藍光LED表現上比藍寶石基板更加優勝，因為單晶碳化矽基板的熱傳導率約4.9W/cm.k，而藍寶石基板(單晶氧化鋁)目前只有0.46W/cm.k，以及沒有導電性,但是單晶碳化矽基板有導電性,並且晶格常數之整合度比藍寶石基板較高，因此,在模組設計上可以雙面利用。    雖然單晶碳化矽基板價格比藍寶石基板昂貴，可是在日本的單晶碳化矽基板相關的各大廠商正如火如荼地研究開發，目前單晶碳化矽基板量產大多是2吋，並且4 吋之單晶碳化矽基板業已開發完成並正在量產中，現階段日本共有兩種單晶碳化矽基板，絕大多數廠商是採用日本Engis公司之拋光設備及專業技術，目前2~3吋基板之拋光精度: Ra＜0.5nm. TTV＜10μm. Bow\Warp＜10μm    目前在日本之藍寶石基板廠商採用3吋，而6吋藍寶石基板也已經量產，日本Engis公司亦提供給日本藍寶石基板廠商精密拋光設備、樹脂銅盤以及鑽石液等耗材，所以日本Engis可稱謂超精密平面拋光業界之領導品牌。現在日本國內之LED散熱用的氮化鋁基板要求面粗度需要達到3nm以下，因此日本Engis以獨自加工製程業已達到約1nm左右，並依客戶實際需求加以研發新的拋光製程，解決客戶在拋光技術及製程上之盲點。    加工條件         貼   合        精   磨          拋   光 設 備EBM-250SAEHG-250NCEJW-460IFN-DMP       工 具陶瓷貼付盤砂輪 #270 Hyprez樹脂銅盤       耗 材WAX切削油鑽石液6um   加 工 時 間20分鐘20分鐘20分鐘   基 板 厚 度 ---110um85um     面 粗 度 ---Ra https://www.ruhanson.com/hot_97623.html https://www.ruhanson.com/hot_97623.html