儒漢甡股份有限公司

產品

拋光懸浮液

電洽

日本Engis氧化矽拋光懸浮液可適用在金屬、矽晶圓、藍寶石基板、陶瓷、光學結晶、鈮酸鋰等之化學機械拋光製程，能夠迅速並有效率達成所要求之鏡面拋光品質。
目前提供的氧化矽粒徑 : 20nm ~ 100nm
 
氧化鈰拋光液是特別針對玻璃或是石英材質之細拋加工，並且對於殘留在拋光後的工件表面上之微細刮痕及加工變質層有顯著移除效果，可達到所需之拋光品質。粒徑 : 1um

              



 

型 　 號

 粒 徑

用          途

pH

HCL - ZL

100nm

矽晶圓、藍寶石基板、陶瓷、不銹鋼等

9.5- 10

TECS - 80J

80nm

鈮酸鋰、矽晶圓、藍寶石、金屬、陶瓷等

9.5- 10

TECS - 60J

60nm

鈮酸鋰、矽晶圓、藍寶石、不銹鋼、光學結晶等

9.5- 10

HCL - XL2

40nm

矽晶圓、藍寶石、光學結晶、不銹鋼等

9.5- 10

HCL - XL 

40nm

矽晶圓、藍寶石、碳化矽、不銹鋼、光學結晶等

9.5- 10

HCL - 20

20nm

光學結晶、陶瓷、不銹鋼等

9.5- 10